摘要
在微纳制造领域，摩方精密凭借面投影微立体光刻（PμSL）技术实现突破。该技术基于光固化机制，通过紫外光投影系统将三维模型切片数据逐层固化光敏树脂，相较传统扫描技术大幅提升效率，并以精确控光实现微米级精度。其创新点涵盖多维度：复合式跨尺度加工，打破尺寸与精度的制造边界；具备智能变精度打印能力，平衡质量与效率；软硬件协同实现设备稳定与设计灵活；兼容多种材料适配多行业需求；更以 2μm - 25μm 精度、200mm³ 成型尺寸，改写微纳 3D 打印精度与效率难以兼得的行业定式，为航空航天、半导体、医疗等领域提供核心制造解决方案
产品介绍
技术原理：面投影微立体光刻（PμSL）技术详解
摩方微纳 3D 打印核心技术为 PμSL（面投影微立体光刻）技术。其运作基于光固化成型机制，通过高精度紫外光投影系统，将数字化三维模型按切片数据，逐层投影至装有光敏树脂材料的容器。当紫外光照射，被照区域的树脂发生光聚合反应，从液态转为固态，实现模型逐层固化成型。
这种面投影方式与点扫描、线扫描 3D 打印技术不同，可一次性固化一个平面的树脂，大幅提升打印效率。通过控制紫外光投影精度以及投影图案，摩方精密得以在微观尺度塑造模型结构，实现微米级精度打印。
创新点剖析
复合式跨尺度加工创新：摩方精密突破传统微纳 3D 打印在尺寸范围的局限，实现大幅面与极小特征尺寸结合。以往微纳 3D 打印多专注小尺寸高精度打印，难以兼顾大尺寸模型；而能打印大尺寸物件的技术，又达不到微纳级精度。摩方精密经技术优化，设备既能打印大尺寸物件，又能对物件局部极小特征尺寸进行精细加工。如航空航天领域的零部件，整体尺寸大，内部含微型散热通道、精细连接结构等，该技术可满足这类复杂的跨尺度加工需求。
智能捕捉模型结构细节：该技术具备智能识别并捕捉模型结构细节的能力，可在同平面自由切换不同精度。打印时，系统自动分析模型结构数据，对结构复杂、精度要求高的区域提高打印精度；对相对简单、精度要求较低的区域，则采用较低精度打印，在保证模型整体质量的同时，有效提升打印效率。以医疗领域定制化器官模型打印为例，对模拟血管、神经等精细结构部分，系统提升精度至微米级确保还原度；对支撑结构等部分，则以稍低精度快速打印，平衡打印时间与模型质量。
灵稳兼备的设计实现：摩方精密微纳 3D 打印技术融合设备稳定性与设计灵活性。硬件上，优化机械结构，采用高精度运动控制组件和光路校准系统，保障打印过程设备稳定运行，持续输出高精度打印效果。软件设计提供灵活接口，支持多种格式模型导入，可对模型进行多样化参数调整。无论是复杂曲面、精细镂空，还是特殊功能微纳结构，用户都能在软件轻松设计，并通过打印设备实现，为创新产品设计制造提供有力技术支持。
材料兼容性创新：摩方精密的微纳 3D 打印技术支持多种材料，包括光敏树脂、陶瓷、金属基复合材料等。在半导体行业，可用特殊光敏树脂制造纳米级芯片封装结构；航空航天领域，金属基复合材料能打印轻量化、高强度微型零部件；医疗领域，生物相容性好的光敏树脂和陶瓷材料可用于定制微米级支架和器官模型。多样的材料选择为各行业产品创新和性能提升带来更多可能 。
精度与效率新突破：相比同类型微纳 3D 打印技术，摩方精密打印精度达 2μm - 25μm，表面粗糙度低至 Ra0.2μm，单次成型尺寸可达 200mm×200mm×200mm。传统微纳 3D 打印中，高精度常伴随低效率，而摩方精密通过优化打印工艺、设备硬件和软件算法，改变这一状况。例如科研机构批量制作微流控芯片，其设备在保证微米级精度的同时，可快速完成打印，加快科研项目进度。
